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　　平面抛光机的首要意图是改善抛光速率，因此能够削减磨削进程中发生的损害层。假如速率非常高，也会使抛光损害层不会造成错误的安排，不会影响观察到的资料安排。假如是运用粗磨，能够起到去除磨削损害层的影响，也有负面影响，将深化抛光层时的损害。

　　超精细双面抛光加工技术设备，包含双面抛光机抛光结束后点检测和进程控制设备、清洗设备、废物处理和测验设备等，消耗品包含抛光垫抛光液。超精细双面抛光进程首要包含抛光，清洗后和丈量测验等几个部分。

　　因此，超精细抛光体系包含许多变量：芯片本身变量、抛光液、抛光垫抛光机流程变量，等等，超精细双面抛光进程的三个关键参数是抛光机，抛光垫抛光液，相互匹配和各自的属性对工件表面质量的影响。

　　假如要运用更多的细磨时能够大大削减抛光损害层，但抛光的速度。解决问题的首要办法是在抛光阶段，能够粗略的抛光，第一次穿了损害层，然后进行打磨抛光，用来铲除抛光层受损。所以不要严重的加快了速度，但也是削减损害的影响。平面抛光机运用办法比较简单，抛光进程自动化。