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　　处理这个矛盾的好的方法便是把抛光分为两个阶段进行。粗抛意图是去除磨光损害层，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛构成的表层损害是非必须的考虑，不过也应当尽可能小；其次是精抛（或称终抛），其意图是去除粗抛发生的表层损害，使抛光损害减到小。

　　磨光机抛光时，试样磨面与抛光盘应绝对平行并均匀地轻压在抛光盘上，留意防止试样飞出和因压力太大而发生新磨痕。同时还应使试样自转并沿转盘半径方向来回移动，以防止抛光织物局部磨损太快在抛光过程中要不断添加微粉悬浮液，使抛光织物保持必定湿度。

　　湿度太大会削弱抛光的磨痕效果，使试样中硬相呈现浮凸和钢中非金属夹杂物及铸铁中石墨相发生"曳尾"现象；湿度太小时，因为摩擦生热会使试样升温，光滑效果减小，磨面失去光泽，甚至呈现黑斑，轻合金则会抛伤表面。磨光机

　　为了达到粗抛的意图，要求转盘转速较低，好不要超越600r/min;抛光时间应当比去掉划痕所需的时间长些，因为还要去掉变形层。粗抛后磨面光滑，但黯淡无光，在显微镜下调查有均匀细致的磨痕，有待精抛消除。精抛时转盘速度可适当提高，抛光时间以抛掉粗抛的损害层为宜。